Für die Galvanotechnik

Säuren sind wesentliche Bestandteile vieler galvanischer Formulierungen und spielen eine entscheidende Rolle in Beschichtungsbädern, sei es als Grundsäure oder als Additiv. Bei TIB Chemicals verstehen wir die Bedeutung dieser Komponenten und bieten daher eine breite Palette an gängigen Mineralsäuren sowie ausgewählte organische Säuren in hoher Reinheit und variablen Konzentrationen an. Diese Säuren sind unverzichtbar für die Herstellung effektiver und leistungsfähiger galvanischer Bäder und Vorbehandlungsprozesse.

 

Unsere Mineralsäuren umfassen in der Galvanotechnik häufig verwendete Säuren wie Salzsäure und Schwefelsäure. Diese sind in verschiedenen Reinheitsgraden erhältlich, um den spezifischen Anforderungen unterschiedlicher Anwendungen gerecht zu werden. Darüber hinaus bieten wir auch spezielle organische Säuren an, die in bestimmten galvanischen Prozessen bevorzugt verwendet werden, z.B. Methansulfonsäure. Die hohe Reinheit unserer Säuren stellt sicher, dass sie optimal mit anderen Komponenten in den Beschichtungsbädern interagieren und keine unerwünschten Verunreinigungen einbringen.

 

Zusammen mit den entsprechenden Metallsalzen bieten unsere Säuren ein perfekt abgestimmtes Grundstoffensemble für Rezepturinhaber von galvanischen Bädern und Vorbehandlungen. Diese Kombination aus Säuren und Metallsalzen ermöglicht die Herstellung von Beschichtungsbädern, die hohe Effizienz, Zuverlässigkeit und gleichbleibende Qualität gewährleisten. Unsere Produkte sind so konzipiert, dass sie den höchsten Standards entsprechen und eine optimale Leistung in den jeweiligen Anwendungen bieten.

 

Darüber hinaus unterstützen wir unsere Kunden mit umfassenden Beratungs- und Serviceleistungen. Unsere Experten stehen bereit, um bei der Auswahl der richtigen Säuren und Metallsalze zu beraten und maßgeschneiderte Lösungen für spezifische Anforderungen zu entwickeln. Durch diese enge Zusammenarbeit stellen wir sicher, dass unsere Kunden stets die besten Ergebnisse in ihren galvanischen Prozessen erzielen.